尼康光刻机半年仅售9台,预亏850亿日元,昔日霸主如何被ASML反超

作者: admin 分类: 投资            2 次浏览 发布时间: 2026-03-26 08:16

引言:尼康2025财年预亏850亿日元,光刻机业务严重萎缩

2026年开春,一则来自日本产业界的消息,为全球半导体设备领域的竞争格局敲下了一记沉重的注脚。日本百年光学巨头尼康发布预警,其2025财年(截至2026年3月)预计将录得850亿日元的净亏损,这一数字创下了公司历史上的最大亏损纪录。尽管尼康官方将亏损归咎于3D打印机业务的拖累,但一个更为刺眼的数据,却将市场的目光牢牢锁定在其核心业务之一的命运上:在过去的半年里,尼康的光刻机业务仅售出9台设备,且几乎全是面向成熟制程的产品。这一数字,与昔日竞争对手的业绩形成了令人震撼的对比。同期,荷兰光刻机霸主阿斯麦(ASML)不仅售出了超过160台各类光刻机,其最尖端、代表半导体制造皇冠的极紫外光(EUV)光刻机就狂卖了20多台。9台对160台,这不仅仅是市场份额的差距,更像是一曲为某个时代落幕而奏响的挽歌。

要理解这组对比数据的残酷性,必须回溯尼康在光刻机领域的辉煌历史。时间拨回到1980年代至1990年代,尼康代表了日本精密制造的巅峰,其在专业相机与半导体光刻机两大领域同时登顶全球。彼时,光刻机作为半导体工业的“心脏”,其技术制高点被尼康牢牢占据。曾有媒体形容其设备的精度“堪比在富士山顶,精准命中东京街头的一枚缝衣针”,甚至有人断言“没有尼康,就没有现代半导体工业”。那是尼康呼风唤雨的时代,从英特尔、IBM到德州仪器,全球芯片巨头为了优先获得尼康的设备,不惜成立常驻团队、预付全款,甚至亲赴工厂蹲点。当时,尼康垄断了全球光刻机市场的半壁江山,其地位正如今天的ASML一样不可撼动。在它的强势竞争下,美国光刻机先驱GCA被迫破产,而当时的ASML尚是一个在夹缝中求生存、毫无话语权的小玩家。这段历史清晰地表明,尼康今日的颓势,并非源于其从未登上过王座,而是从绝对的霸主地位上滑落。

因此,尼康2025财年的巨额亏损与光刻机业务的急剧萎缩,其意义远超一次普通的财务危机。它标志着一个以封闭式自主研发、垂直整合为特征的产业模式的重大挫折,也是日本科技产业“加拉帕戈斯化”现象在高端制造领域的又一次集中爆发。所谓“加拉帕戈斯化”,意指在孤立环境中演化出独特且先进的技术体系,却因与全球主流市场脱节而最终失去竞争力。尼康的衰落轨迹,正是这一模式的经典案例:它曾凭借极致的精密制造能力构建了技术壁垒,却也因这种成功滋生的技术傲慢与路径依赖,在两次关键的技术路线抉择中接连失误,最终被拥抱开放、协同创新的竞争对手彻底超越。从2002年傲慢拒绝台积电的浸没式技术方案,到2012年后在EUV技术上投入超千亿日元却最终失败的封闭自研,尼康的故事是一部关于技术决策、产业生态与全球竞争关系的深度教材。本章节所揭示的财务数据与市场对比,仅仅是这场长达二十余年战略失误的结果呈现,其背后的成因与教训,才是值得我们深入剖析的核心。

尼康光刻机的辉煌历史:1980年代的垄断地位

1980年代,是日本精密制造在全球舞台上确立其巅峰地位的黄金时代,而尼康无疑是这个时代最耀眼的明星之一。这家百年光学巨头,凭借其深厚的技术积淀,在专业相机与半导体光刻机两大核心领域同时登顶全球,实现了技术与商业的双重霸权。尤其在半导体工业的心脏——光刻机领域,尼康的统治力达到了令人惊叹的程度,其产品不仅是当时最先进的制造工具,更被视为定义半导体产业发展上限的基石。这种地位,源于其对光学极限的极致追求,以及将精密工程学发挥到极致的制造能力。

尼康光刻机的技术精度,是那个时代工程奇迹的象征。曾有媒体用极具画面感的比喻来形容其超凡性能:尼康光刻机的精度,堪比在富士山顶,精准命中东京街头的一枚缝衣针。这个类比生动地揭示了其将宏观定位与微观雕刻完美结合的能力。在半导体制造中,光刻机需要在晶圆上刻画出纳米级别的电路图案,任何微小的偏差都会导致芯片失效。尼康凭借其在光学镜头领域积累的顶尖技术,成功将光源波长、镜头分辨率与机械稳定性推向了当时的极限,从而确保了图案转移的极高保真度。正是这种无与伦比的精度,支撑了当时集成电路制程的快速迭代,以至于业界曾有人断言:“没有尼康,就没有现代半导体工业。”这并非过誉,而是对其在产业链中不可替代的核心地位的客观描述。

技术上的绝对领先,直接转化为市场端的绝对统治。在1980年代,尼康光刻机垄断了全球市场的半壁江山,其地位正如今天的ASML,是不可撼动的霸主。全球所有顶尖的芯片制造商,从英特尔、IBM到德州仪器,其先进制程的研发与量产都严重依赖于尼康的设备。为了确保能优先获得尼康最新型号的光刻机,这些巨头不惜放下身段,组建专门的对接团队,常驻尼康位于硅谷的分部,只为争取宝贵的供货名额。坊间更流传着更为极端的案例:有半导体公司的老板亲自奔赴尼康工厂蹲点,并预先支付全款,所求的也仅仅是一个设备调试的排队资格。这种“卖方市场”的盛况,淋漓尽致地展现了尼康在产业链中的强势话语权。

对比维度 1980年代尼康 同期竞争对手
市场地位 垄断全球市场半壁江山,不可撼动的霸主
客户依赖度 英特尔、IBM、德州仪器等巨头组建团队常驻争取供货
行业影响力 被视作现代半导体工业的基石 美国光刻机鼻祖GCA被迫破产
技术口碑 精度被形容为“富士山顶命中东京缝衣针”

在尼康的铁骑之下,竞争对手纷纷溃败。曾经的光刻机先驱、美国公司GCA就在这场技术碾压与市场挤压中被迫宣布破产。而如今统治市场的荷兰ASML,在当时不过是刚刚起步、在夹缝中艰难求生的小玩家,无论在技术路线还是市场份额上,都完全不具备与尼康对话的资格。尼康的辉煌,是日本“工匠精神”与系统性产业政策结合的成功典范,它代表了一个国家凭借在特定高端制造领域的绝对优势,就能掌控全球关键产业链命脉的时代。这段历史深刻地说明,在技术驱动的行业中,一旦建立起基于顶尖性能的市场垄断,其带来的商业护城河与生态控制力将是极其深厚的。然而,正如许多商业史所揭示的,巅峰往往也预示着转折的开始,对路径的依赖与对市场变化的傲慢,可能为未来的衰落埋下伏笔。

战略失误一:2002年傲慢拒绝浸没式技术方案

尼康光刻机半年仅售9台,预亏850亿日元,昔日霸主如何被ASML反超

如果说尼康的巅峰建立在精密制造的绝对自信之上,那么其衰落的第一个关键转折点,则源于这种自信在技术路线选择时异化为致命的傲慢。2002年,当台积电资深处长、天才科学家林本坚带着一个颠覆性的构想——浸没式光刻技术方案——敲开尼康大门时,他面对的是一堵由技术优越感和路径依赖筑成的高墙。当时,半导体行业正面临一个重大瓶颈:基于193nm波长的干式光刻技术已触及物理极限,而下一代157nm光源的研发则陷入停滞,整个产业都在寻找突破口。林本坚的方案极具巧思:通过在精密的镜头与待加工的晶圆之间注入一层水,利用水的高折射率特性,等效地将193nm光源“缩短”至134nm,从而一举绕过当时被视为天堑的技术障碍。这本是一条成本更低、见效更快的捷径。

然而,这一革命性的构想遭到了尼康几乎所有高层的断然拒绝。从会长吉田庄一郎到当时的光刻机技术骨干(后来成为会长的马立稔和),无人有耐心细听其技术细节。在尼康的技术权威们看来,将公司耗费心血打造的、代表全球顶级精密水平的光学镜头浸泡在水中,不仅是对精密光学工程的“亵渎”,更带来了不可控的工程风险。他们当场质问林本坚:“如果水污染了镜头,你们台积电赔得起吗?如果气泡导致晶圆批量报废,这个责任谁担?”这种质问的背后,是技术领先者对挑战其工艺哲学的外来方案的极度不信任。更深层次的原因在于,尼康当时已在下一代157nm干式光刻技术的研发上投入了超过七亿美金,转向浸没式路线意味着巨大的沉没成本。因此,尼康不仅拒绝了合作,甚至试图利用自身行业影响力封杀这一构想,其高层曾致电台积电,要求“管好”林本坚,不要让他“推销这种破坏行业共识的构想”。

对比维度 尼康 (Nikon) ASML
对浸没式技术的初始态度 傲慢拒绝,视为对精密光学的亵渎与工程风险 积极拥抱,视为打破格局的战略机遇
决策背后的核心考量 保护既有巨额研发投入(157nm路径)、维护技术权威与工艺纯洁性 作为市场挑战者,急需一个颠覆性技术实现弯道超车
关键行动 拒绝合作,并试图在行业内封杀该技术路线 力排众议,押注全部资源与台积电联合攻关
成果问世时间 2004年
长期市场影响 丧失高端光刻机市场半壁江山,技术领导地位被颠覆 凭借浸没式光刻机横扫全球,确立市场垄断地位开端

与尼康的封闭形成鲜明对比的,是当时尚在夹缝中求生的荷兰公司ASML的选择。在尼康碰壁后,林本坚飞往荷兰,见到了ASML的技术灵魂人物马丁·范登布林克。后者以其欧洲工程师特有的冒险精神,敏锐地意识到这是一个千载难逢的破局机会。ASML果断押注,集中所有资源与台积电携手攻克了浸没式技术的工程化难题。2004年,ASML的浸没式光刻机横空出世,其性能与成本优势迅速征服了市场。这一技术路线的成功,不仅彻底解决了当时的制程瓶颈,更一举改写了全球光刻机的竞争格局。尼康曾经凭借顶级镜头构筑的技术壁垒,在新的物理原理面前瞬间失效,其垄断的高端光刻机市场“半壁江山”随之崩塌。

这一决策失误的影响是深远且结构性的。它不仅仅是错过了一代产品,更是让尼康在半导体产业最核心的“设备-工艺”协同创新生态中彻底边缘化。当ASML通过与台积电的紧密合作,将浸没式技术快速迭代并推向极致时,尼康被甩出了产业创新的快车道。这次失败清晰地揭示了一个残酷的现实:在技术快速迭代的领域,对既有技术路径的过度依赖与对市场新声的傲慢漠视,足以让曾经的霸主迅速丧失方向。尼康的这次拒绝,本质上是一次战略误判,它误将工艺的“纯洁性”置于市场的实际需求之上,误将短期的沉没成本看得比长期的产业趋势更重,最终为竞争对手的崛起铺平了道路,也为自身长达二十年的衰落拉开了序幕。

战略失误二:2012年后封闭自研EUV技术的失败

如果说在浸没式技术上的傲慢拒绝,让尼康失去了高端市场的半壁江山,那么其在下一代技术——极紫外光(EUV)上的战略选择,则彻底关闭了其重返巅峰的大门。这一次,尼康犯下了与开放合作时代潮流背道而驰的错误:选择了封闭的自研策略。面对技术路线上的重大失利,尼康并未深刻反思其决策机制与开放性的不足,反而试图通过构筑更高的技术壁垒来挽回败局。彼时已成长为技术负责人的马立稔和,启动了EUV技术的预研,并立下“全自研、全日本产”的雄心壮志。这一决策背后,是试图在封闭的体系内,复刻日本精密制造昔日征服世界的奇迹,其本质是对过往成功路径的过度依赖与对全球化协作趋势的严重误判。

这一封闭战略导致了灾难性的资源错配与技术滞后。为了集中力量攻克被视为“国运之战”的EUV技术,尼康在自身投入巨资的同时,也获得了日本政府的大量支持。然而,这条“闭门造车”的道路异常艰难且低效。根据公开信息,至2018年,尼康在该项目上的投资已超过千亿日元,但成果仅止步于一台原型机。这与同一时期其竞争对手ASML的进展形成了残酷对比:ASML通过构建一个囊括全球顶尖供应商(如美国的Cymer光源、德国的蔡司镜头)和核心客户(如台积电、英特尔、三星)的开放创新生态,不仅成功实现了EUV光刻机的商业化量产,更持续推动技术迭代。尼康的千亿日元投入,最终未能转化为任何市场竞争力,项目被迫终止。这不仅是资金的巨大浪费,更是战略时间窗口的永久丧失。当ASML的EUV设备开始成为7纳米及以下先进制程芯片制造的标配时,尼康的光刻机业务已被牢牢锁定在成熟制程市场,失去了参与未来竞争的资格。

对比维度 尼康 (Nikon) 阿斯麦 (ASML)
技术策略 封闭自研,追求“全日本产” 开放合作,构建全球供应链与客户联盟
资源投入 至2018年投资超千亿日元 持续投入,并获生态伙伴共同投资与验证
核心产出 仅造出原型机,项目终止 实现EUV光刻机量产并持续迭代
市场结果 技术滞后,退出高端竞争 垄断高端EUV市场,定义行业标准

尼康在EUV上的失败,深刻揭示了在高度复杂的尖端科技领域,封闭体系的脆弱性与开放生态的压倒性优势。光刻机,尤其是EUV光刻机,是现代工业皇冠上的明珠,其研发涉及精密光学、超高精度机械、先进材料、复杂软件控制等数十个前沿学科,没有任何一家公司能够独立掌握所有关键技术。ASML的成功,恰恰在于它将自己定位为“系统集成者”和“生态组织者”,而非“全能技术拥有者”。它通过共享风险与收益,将全球最聪明的头脑和最精湛的工艺整合进自己的供应链,从而将技术复杂度转化为生态护城河。反观尼康,其“加拉帕戈斯化”的产业思维在此显露无遗:试图在一个与世隔绝的岛屿上,培育出足以对抗全球进化力量的物种。这种基于民族自豪感与过往荣耀的技术民族主义,在需要全球协作、快速迭代的现代科技竞争中,注定是一条通向衰败的孤岛。至此,尼康光刻机业务从技术路线的跟随者,彻底沦为市场的边缘者,其业务萎缩的结局已不可避免。

产业’加拉帕戈斯化’问题:日本科技竞争的警示

尼康的溃败,并非一个孤立的技术或商业决策失误,而是日本高科技产业在全球化浪潮下,其内在结构性困境的一次集中爆发。这种困境,常被业界学者称为产业的“加拉帕戈斯化”——一个源自日本本土手机产业封闭发展的比喻,意指在相对孤立的环境中,演化出一套高度精良、却与全球主流标准和技术路线脱节的产品与生态,最终在全球开放竞争中丧失生命力。尼康光刻机的衰落史,正是这一现象的经典注脚。

尼康光刻机半年仅售9台,预亏850亿日元,昔日霸主如何被ASML反超

封闭的技术生态与傲慢的市场心态,是“加拉帕戈斯化”的核心特征。 尼康在两次关键的技术路线抉择中,都鲜明地体现了这一点。2002年,当台积电的林本坚带来浸没式技术方案时,尼康高层的反应并非基于开放的技术评估,而是基于对自身“全球第一精密光学”的盲目自信和对既有投入路径的维护。他们质问“水污染镜头谁负责”,并试图利用行业地位“封杀”这一构想,其本质是试图用封闭的行业权威来定义技术演进的方向,拒绝外部(尤其是客户)的创新输入。这种傲慢,使其错失了成本更低、效果更好的技术捷径。同样,在EUV技术的研发上,尼康选择了“全自研、全日本产”的封闭策略,试图在“墙内”复刻奇迹。然而,现代尖端科技,尤其是像EUV这样涉及光源、光学、材料、精密机械、控制软件等数十个前沿领域的超级工程,早已超越了单一国家甚至单一公司的能力边界。ASML的成功,恰恰在于其构建了一个以自身为中心的、开放全球供应链与研发联盟(包括美国的光源、德国的光学、台积电的工艺整合等)。尼康的封闭自研,看似是技术民族主义的豪赌,实则是将自己隔绝于全球知识流动与协作网络之外,其结果是投入超千亿日元仅造出原型机后项目终止,巨额投资付诸东流。这两次战略失误,清晰地勾勒出一条由技术封闭走向市场边缘的轨迹。

“加拉帕戈斯化”的危害不仅在于错失单一市场,更在于其系统性削弱了整个产业的适应与进化能力。 尼康的案例警示我们,这种模式对日本其他高科技产业存在潜在的深远影响。从全局素材中提及的“索尼退场,日本电视全军覆没”以及“日系电视,迎来中国主场时代”等背景参考来看,日本在消费电子、显示面板等领域同样经历了从全球霸主到被迫整合、退出的类似路径。这些产业都曾拥有极致的内向优化能力,在特定的国内市场或技术路径上达到顶峰,但当全球技术范式发生转移(如从CRT到LCD/OLED,从封闭生态到开放安卓)、竞争格局变为中韩企业主导的全球化成本与创新竞赛时,昔日的优势迅速转化为转型的包袱。光刻机、电视产业的故事共同揭示了一个残酷的现实:在技术迭代速度呈指数级增长的今天,任何试图在封闭系统内维持“精益求精”而忽视外部生态协同与路线开放性的产业策略,都面临着被时代浪潮瞬间颠覆的巨大风险。

作为长期观察技术与产业演进的专业人士,我判断,尼康的教训超越了光刻机领域本身。它警示所有处于技术密集型行业的企业与经济体:真正的核心竞争力,已不再仅仅是基于过往经验的内部精密化能力,更是在于构建并融入全球创新网络、保持技术路线选择的开放性与灵活性、以及快速吸收并整合外部突破性创新的能力。在AI驱动、软硬一体、跨界融合成为主流的当下,任何形式的“技术孤岛”,无论其内部的工艺多么精湛,历史多么辉煌,都难以避免在开放的、动态的全球科技竞争中走向“加拉帕戈斯化”的宿命。日本产业界的这声“惊雷”,值得所有追赶者与领先者深思。

值得警惕的反面观点:尼康衰落是否仅因外部因素?

诚然,将尼康的衰落完全归咎于其内部决策,似乎忽略了外部竞争环境的剧烈变化。一个值得探讨的反面观点是:尼康的溃败,是否更多源于荷兰ASML的强势崛起、全球半导体产业格局的深刻重构以及技术迭代周期的加速等外部不可抗力?毕竟,在ASML狂卖160台光刻机(其中高端EUV光刻机超过20台)的同期,尼康仅售出9台设备的惨淡数据,直观地描绘了一个被外部巨浪吞噬的图景。这种观点认为,面对一个集结了全球顶尖供应链(如蔡司镜头、美国光源技术)和主要客户(如台积电、英特尔)支持的竞争对手,任何单一企业都难以抗衡,尼康的失败是系统性外部压力下的必然结果。

然而,深入剖析外部竞争压力的形成过程,我们会发现,所谓的外部“不可抗力”,恰恰是由尼康自身的战略选择所催生和放大的。外部市场的“势”并非凭空而来,而是企业间关键决策相互作用的结果。以最核心的浸没式技术转折点为例,2002年台积电林本坚带着颠覆性方案首先叩响的是尼康的大门,这本身是一个将外部创新力量内化为自身竞争优势的历史性机遇。然而,尼康高层的傲慢与对既有技术路径(157nm干式光刻机)的沉没成本(投入七亿多美金)的执着,使其不仅拒绝了合作,甚至试图“封杀这个构想”。这一关键决策,主动将技术创新的主导权拱手让出。当ASML以开放和冒险的姿态接纳了这一“疯狂的想法”,并在2004年推出浸没式光刻机横扫全球时,外部竞争格局的剧变才真正成为现实。换言之,是尼康的封闭,亲手将潜在的盟友推向了对手,并为自己塑造了一个无比强大的外部敌人。

同样,在后续的EUV技术竞争中,外部压力与内部战略形成了致命的负向循环。面对浸没式技术的失利,尼康选择了一条更为极端的“全自研、全日本产”的封闭路线来应对外部挑战。这一策略看似是集中力量应对外部技术竞赛,实则是在全球半导体产业早已形成高度专业化分工的背景下,逆潮流而动的“加拉帕戈斯化”自愈。它试图在封闭的体系内复刻一个已经过时的、垂直整合的竞争模式,其结果是从2012年到2018年,投入超千亿日元却仅造出原型机,项目最终终止。而与此同时,ASML则通过构建一个开放、全球协作的EUV生态系统,成功将外部顶尖技术资源(包括美国Cymer的光源)整合为自身核心竞争力。尼康的EUV豪赌,非但未能抵御外部压力,反而因其封闭性耗尽了宝贵的资源和时间窗口,最终被外部快速迭代的技术洪流彻底抛离。

因此,综合评估内部战略失误与外部竞争压力的相互作用,结论是清晰的:外部竞争环境的恶化是结果,而非原因;内部一系列关键的战略误判,才是导致这一恶果的根本驱动力。ASML的崛起并非一种宿命般的自然力量,它建立在抓住尼康所拒绝的机遇、构建尼康所鄙夷的开放生态等一系列主动选择之上。尼康的故事警示我们,在技术快速迭代的领域,最大的风险往往并非来自竞争对手的凶猛,而是源于自身的傲慢、封闭以及对路径依赖的顽固坚守。外部市场如同一面镜子,最终映照出的,是企业内在战略思维与组织基因的真实形态。将失败简单归因于外部因素,无异于回避了最核心的教训,这对于任何身处激烈竞争中的技术企业而言,都是值得警惕的思维陷阱。

结论:尼康衰落的教训与未来展望

尼康光刻机业务的崩盘,其核心教训并非单一的技术路线误判,而是植根于企业战略思维深处的傲慢与封闭。这两大顽疾,在关键的历史节点上被放大,最终导致了无可挽回的衰落。从2002年傲慢拒绝台积电的浸没式方案,到2012年后在EUV技术上执拗地采用封闭自研策略,尼康的决策逻辑始终围绕着对自身“精密制造巅峰”光环的过度自信,以及对开放协作体系的排斥。这种“加拉帕戈斯化”的发展模式,使其在技术快速迭代、生态高度协同的全球半导体竞赛中,逐渐沦为孤岛。850亿日元的创纪录预亏与半年仅售出9台光刻机的冰冷数据,正是这种封闭系统在开放市场规则下的必然结局。它警示所有技术驱动型企业:在当今时代,技术优势的护城河不再仅由内部研发深度决定,更取决于融入甚至引领全球创新生态的广度与速度。

对于日本产业界而言,尼康的案例是一个需要深刻反思的缩影。要避免重蹈覆辙,关键在于打破固有的封闭心态,积极拥抱开放合作。这并非要求放弃自主核心技术,而是要在战略上明确:哪些环节必须坚持自主可控,哪些环节则必须通过全球协作来获取最优解并分摊风险。ASML的成功正是这一路径的典范——它通过整合全球顶尖资源(如德国蔡司的镜头、美国的光源技术),并与台积电等客户深度绑定共同研发,构建了难以撼动的生态联盟。日本企业拥有深厚的精密制造与材料科学底蕴,其转型路径应是从“全链条自研”的孤军奋战,转向“核心优势+开放生态”的精准定位。例如,在半导体设备领域,日本企业可以更专注于其具有传统优势的细分市场(如某些成熟制程设备、关键零部件或材料),并与领先的系统集成商建立战略合作,而非执着于在已形成高度垄断的整机市场进行正面攻坚。

展望未来,尼康及其他面临类似挑战的日本企业,其转型的核心在于战略思维的彻底调整与创新模式的再造。首先,必须进行彻底的“战略审计”,客观评估自身在全球化产业链中的真实竞争地位,果断剥离或重组如光刻机这类已丧失竞争力的非核心或拖累业务(正如尼康将亏损归因于3D打印机业务,但市场更关注其光刻机的惨淡)。其次,应加大对新兴交叉技术领域的投入,寻找“日本制造”精密优势与未来趋势(如AI驱动的高端制造、量子计算相关设备、生物科技仪器等)的新结合点。最后,组织文化的变革至关重要,需要建立一种鼓励外部视角、容忍试错并能快速响应市场信号的学习型组织,以替代过去那种基于历史辉煌的、内向的决策机制。历史的车轮不会倒转,属于单一企业凭借封闭技术就能垄断一个时代的篇章已经翻过。在AI与全球化深度融合的今天,唯有保持开放、持续学习、并在生态中找准自身独特价值的企业,才能穿越周期,赢得未来。尼康的故事,是一部关于傲慢与封闭如何葬送领先优势的教科书,其价值不在于缅怀昔日的“富士山顶命中缝衣针”般的精度传奇,而在于为所有仍在攀登技术高峰的企业,敲响了一记关于生存法则的、振聋发聩的警钟。

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杨建荣,《Oracle DBA工作笔记》《MySQL DBA工作笔记》作者,dbaplus社群发起人之一,腾讯云TVP,现任竞技世界系统部经理,拥有十多年数据库开发和运维经验,目前专注于开源技术、运维自动化和性能调优

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